1064nm 400mJ 大能量皮秒激光器｜PLD 薄膜制备、激光冲击强化专用

晶众光电 LEOPTIK 系列 PN1064-400MSP-E 是面向 PLD 脉冲激光沉积、激光冲击强化场景开发的大能量皮秒激光器，凭借超高单脉冲能量、窄脉宽与优异光束质量，为前沿科研与精密加工领域提供稳定可靠的激光光源方案。

产品核心优势

这款 1064nm 皮秒激光器主打高单脉冲能量输出，单脉冲能量≥400mJ，脉冲宽度小于 700ps，在皮秒时间尺度下实现大能量脉冲输出，兼顾高峰值功率与热效应控制，减少加工过程中非目标区域的热损伤。

光源搭载长寿命氙灯，工作寿命可达 2000 万发以上，整机结构紧凑，降低设备集成难度，适合实验室与工业化平台的长期连续使用。同时激光器能量稳定性优异，4 小时内脉冲能量 RMS 波动小于 1%，保障实验数据、加工工艺的一致性与可重复性。

详细技术参数

典型行业应用

1. 脉冲激光沉积（PLD）

PLD 是制备功能薄膜、氧化物、超材料的核心手段，该激光器高单脉冲能量可以高效轰击靶材，产生高质量等离子体羽辉，生长组分均匀的外延薄膜，广泛用于新材料、半导体薄膜科研。

2. 光学元件加工

皮秒窄脉宽特性带来冷加工优势，搭配大脉冲能量，可用于各类光学元器件的精密刻蚀、打孔与表面改性，降低热变形，保障光学面型精度。

3. 激光冲击强化

本型号为 PLD / 冲击强化专用大能量激光机型，激光冲击强化利用高峰值压力对金属材料表面进行改性，提升金属零部件疲劳强度、抗腐蚀能力，适用于航空、动力装备关键构件的表面强化研究。

4. 前沿科研实验

在强场物理、激光等离子体、光谱探测等基础科研场景，稳定可控的大能量皮秒光源，是各类物理效应观测、机理验证的重要实验平台。

产品说明

PN1064-400MSP-E 属于 LEOPTIK PLD / 冲击强化专用激光器系列，整机水冷设计，输出光束圆度高、偏振稳定，参数指标经过实测验证。设备支持低重复频率下稳定大能量输出，兼顾科研灵活性与工业级稳定性，可根据项目需求提供配套的光学方案与技术支持。

晶众光电持续深耕高能皮秒激光技术，为薄膜制备、激光冲击强化、精密光学加工等领域客户提供稳定、高性能的激光源与定制化解决方案。